आमच्या वेबसाइट्सवर आपले स्वागत आहे!

CuIn स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता पातळ फिल्म Pvd कोटिंग कस्टम मेड

कॉपर इंडियम

संक्षिप्त वर्णन:

श्रेणी

मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

रासायनिक सूत्र

CuIn

रचना

कॉपर इंडियम

पवित्रता

९९.९%, ९९.९५%, ९९.९९%

आकार

प्लेट्स,स्तंभ लक्ष्य,आर्क कॅथोड्स,सानुकूल-निर्मित

उत्पादन प्रक्रिया

व्हॅक्यूम वितळणे

उपलब्ध आकार

L≤2000mm,W≤200mm


उत्पादन तपशील

उत्पादन टॅग

कॉपर इंडियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य व्हॅक्यूम इंडक्शन मेल्टिंगद्वारे पारंपारिकपणे तयार केले जाते.नियतकालिक सारणीतील जवळजवळ सर्व घटकांसह इंडियम विविध प्रकारचे इंडियम मिश्र धातु बनवू शकतो.कॉपर इंडियम मिश्र धातु हे बायनरी मिश्रधातू आहे, ते सहसा कमी वितळणारे मिश्र धातु आणि ब्रेझिंग मिश्र धातु म्हणून वापरले जाते.

कॉपर इंडियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्याचा लक्षणीय फायदा आहे की ते उत्कृष्ट विद्युत चालकता आणि शुद्ध धान्य आकारासह पीव्हीडी कोटिंग्ज तयार करू शकतात.हे तांबे (Cu), गॅलियम (Ga), इंडियम (In) आणि सेलेनियम (Se) च्या रचनांसह CIGS स्तरांच्या निर्मितीमध्ये मदत करू शकते आणि त्यांना त्यांच्या घटक भागांवर नाव देण्यात आले आहे.CIGS मध्ये उच्च फोटोव्होल्टेइक रूपांतरण कार्यक्षमता आहे, म्हणून ते सौर पेशींसाठी शोषक थर म्हणून वापरण्यासाठी अनुकूल आहे.

रिच स्पेशल मटेरियल्स स्पटरिंग टार्गेटच्या निर्मितीमध्ये माहिर आहेत आणि ग्राहकांच्या वैशिष्ट्यांनुसार कॉपर इंडियम स्पटरिंग मटेरियल तयार करू शकतात.अधिक माहितीसाठी, कृपया आमच्याशी संपर्क साधा.


  • मागील:
  • पुढे: