आपण आता लक्ष्याशी परिचित असणे आवश्यक आहे, आता लक्ष्य बाजार देखील वाढत आहे, RSM च्या संपादकाने सामायिक केलेल्या स्पटरिंग लक्ष्याची मुख्य कामगिरी खालीलप्रमाणे आहे.
शुद्धता
लक्ष्य सामग्रीची शुद्धता ही मुख्य कामगिरी निर्देशांकांपैकी एक आहे, कारण लक्ष्य सामग्रीच्या शुद्धतेचा पातळ फिल्मच्या कामगिरीवर मोठा प्रभाव असतो.तथापि, व्यावहारिक अनुप्रयोगामध्ये, लक्ष्य सामग्रीची शुद्धता आवश्यकता सारखी नसतात.उदाहरणार्थ, मायक्रोइलेक्ट्रॉनिक उद्योगाच्या जलद विकासासह, सिलिकॉन चिपचा आकार 6 “, 8 “ते 12″ पर्यंत विकसित केला गेला आहे आणि वायरिंगची रुंदी 0.5um वरून 0.25um, 0.18um किंवा अगदी 0.13um पर्यंत कमी केली गेली आहे.पूर्वी, 99.995% लक्ष्य सामग्रीची शुद्धता 0.35umIC च्या प्रक्रिया आवश्यकता पूर्ण करू शकते.0.18um रेषा तयार करण्यासाठी लक्ष्य सामग्रीची शुद्धता 99.999% किंवा अगदी 99.9999% आहे.
अशुद्धता सामग्री
टार्गेट सॉलिडमधील अशुद्धता आणि छिद्रांमधील ऑक्सिजन आणि पाण्याची वाफ हे फिल्म डिपॉझिशनचे मुख्य प्रदूषण स्रोत आहेत.वेगवेगळ्या उद्देशांसाठी लक्ष्य सामग्रीमध्ये भिन्न अशुद्धता सामग्रीसाठी भिन्न आवश्यकता आहेत.उदाहरणार्थ, सेमीकंडक्टर उद्योगात वापरल्या जाणार्‍या शुद्ध अॅल्युमिनियम आणि अॅल्युमिनियम मिश्र धातुच्या लक्ष्यांना अल्कली धातू आणि किरणोत्सर्गी घटकांच्या सामग्रीसाठी विशेष आवश्यकता असतात.
घनता
टार्गेट सॉलिडमधील सच्छिद्रता कमी करण्यासाठी आणि स्पटरिंग फिल्मचे कार्यप्रदर्शन सुधारण्यासाठी, सामान्यतः लक्ष्याची उच्च घनता आवश्यक असते.लक्ष्याची घनता केवळ स्पटरिंग रेटवरच नाही तर फिल्मच्या इलेक्ट्रिकल आणि ऑप्टिकल गुणधर्मांवर देखील परिणाम करते.लक्ष्य घनता जितकी जास्त तितका चित्रपटाचा परफॉर्मन्स चांगला.याव्यतिरिक्त, लक्ष्याची घनता आणि सामर्थ्य वाढवण्यामुळे लक्ष्य थुंकण्याच्या प्रक्रियेत थर्मल तणावाचा सामना करू शकतो.घनता देखील लक्ष्याच्या प्रमुख कामगिरी निर्देशांकांपैकी एक आहे.
धान्य आकार आणि धान्य आकार वितरण
लक्ष्य सामान्यतः पॉलीक्रिस्टलाइन असते ज्याचा आकार मायक्रोमीटर ते मिलीमीटरपर्यंत असतो.त्याच लक्ष्यासाठी, लहान धान्यांसह लक्ष्याचा स्पटरिंग दर मोठ्या धान्यांसह लक्ष्यापेक्षा वेगवान आहे.लहान धान्य आकाराच्या फरकासह (एकसमान वितरण) स्पटरिंग लक्ष्याद्वारे जमा केलेल्या चित्रपटांची जाडी वितरण अधिक एकसमान असते.
पोस्ट वेळ: ऑगस्ट-04-2022