स्पटर केलेल्या लक्ष्य सामग्रीच्या वापरादरम्यान उच्च आवश्यकता असते, केवळ शुद्धता आणि कणांच्या आकारासाठीच नव्हे तर समान कण आकारासाठी देखील.स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री वापरताना या उच्च आवश्यकतांमुळे आम्हाला अधिक लक्ष द्यावे लागते.
1. स्पटरिंग तयारी
व्हॅक्यूम चेंबर, विशेषत: स्पटरिंग सिस्टमची स्वच्छता राखणे फार महत्वाचे आहे.वंगण, धूळ आणि पूर्वीच्या कोटिंग्जमधील कोणतेही अवशेष पाण्यासारखे प्रदूषक जमा करू शकतात, ज्यामुळे व्हॅक्यूमवर थेट परिणाम होतो आणि फिल्म तयार होण्याची शक्यता वाढते.शॉर्ट सर्किट्स, टार्गेट आर्किंग, खडबडीत फिल्म तयार करणारे पृष्ठभाग आणि जास्त प्रमाणात रासायनिक अशुद्धता सामान्यतः अस्वच्छ थुंकणाऱ्या चेंबर्स, गन आणि लक्ष्यांमुळे होतात.
कोटिंगची रचनात्मक वैशिष्ट्ये राखण्यासाठी, स्पटरिंग गॅस (आर्गॉन किंवा ऑक्सिजन) स्वच्छ आणि कोरडे असणे आवश्यक आहे.स्पटरिंग चेंबरमध्ये सब्सट्रेट स्थापित केल्यानंतर, प्रक्रियेसाठी आवश्यक व्हॅक्यूम पातळी प्राप्त करण्यासाठी हवा काढणे आवश्यक आहे.
2. लक्ष्य साफ करणे
लक्ष्य साफसफाईचा उद्देश लक्ष्याच्या पृष्ठभागावर अस्तित्वात असलेली कोणतीही धूळ किंवा घाण काढून टाकणे आहे.
3. लक्ष्य स्थापना
लक्ष्य सामग्रीच्या स्थापनेच्या प्रक्रियेदरम्यान लक्ष देण्याची सर्वात महत्वाची गोष्ट म्हणजे लक्ष्य सामग्री आणि स्पटरिंग गनची शीतलक भिंत यांच्यात चांगले थर्मल कनेक्शन सुनिश्चित करणे.जर कूलिंग वॉल किंवा बॅक प्लेट गंभीरपणे विकृत असेल, तर लक्ष्य सामग्रीच्या स्थापनेदरम्यान ते क्रॅक किंवा वाकणे होऊ शकते.मागील लक्ष्यापासून लक्ष्य सामग्रीकडे उष्णता हस्तांतरण मोठ्या प्रमाणात प्रभावित होईल, परिणामी स्पटरिंग दरम्यान उष्णता नष्ट करण्यास असमर्थता येते, शेवटी लक्ष्य सामग्रीचे क्रॅक किंवा विचलन होते.
4. शॉर्ट सर्किट आणि सीलिंग तपासणी
लक्ष्य सामग्रीच्या स्थापनेनंतर, संपूर्ण कॅथोडचे शॉर्ट सर्किट आणि सीलिंग तपासणे आवश्यक आहे.कॅथोड शॉर्ट सर्किट झाला आहे की नाही हे निर्धारित करण्यासाठी ओममीटर आणि मेगोहमीटर वापरण्याची शिफारस केली जाते.कॅथोड शॉर्ट सर्किट झाला नाही याची पुष्टी केल्यानंतर, गळती आहे की नाही हे निर्धारित करण्यासाठी कॅथोडमध्ये पाणी इंजेक्ट करून गळती शोधली जाऊ शकते.
5. स्पटरिंग पूर्व लक्ष्य सामग्री
लक्ष्य सामग्रीच्या पूर्व थुंकीसाठी शुद्ध आर्गॉन गॅस वापरण्याची शिफारस केली जाते, ज्यामुळे लक्ष्य सामग्रीची पृष्ठभाग साफ करता येते.लक्ष्यित सामग्रीसाठी स्पटरिंगच्या पूर्व प्रक्रियेदरम्यान हळूहळू थुंकण्याची शक्ती वाढवण्याची शिफारस केली जाते.सिरेमिक लक्ष्य सामग्रीची शक्ती
पोस्ट वेळ: ऑक्टोबर-19-2023