आधुनिक इमारतींनी काचेच्या प्रकाशाच्या मोठ्या क्षेत्रांचा वापर करण्यास सुरुवात केली.हा पैलू आपल्याला उजळ खोल्या आणि विस्तीर्ण क्षितिजे देतो.दुसरीकडे, काचेच्या माध्यमातून प्रसारित होणारी उष्णता आसपासच्या भिंतींपेक्षा खूप जास्त असते आणि संपूर्ण इमारतीचा ऊर्जेचा वापर लक्षणीय वाढतो..
विकसित देशांमध्ये 90% पेक्षा जास्त कमी-किरणोत्सर्गाच्या काचेच्या वापराच्या दराच्या तुलनेत, चीनमध्ये कमी-ई ग्लासचा प्रवेश दर फक्त 12% आहे आणि चीनमध्ये अजूनही विकासासाठी भरपूर जागा आहे. तथापि, तुलनेत सामान्य काच आणि ऑनलाइन लो-ई ग्लास, ऑफलाइन LowE ग्लासची उत्पादन किंमत जास्त आहे, जी विशिष्ट डिग्रीच्या अनुप्रयोगास प्रतिबंधित करते. घरगुती काच प्रक्रिया उद्योगांना कोटिंग उत्पादनांची उत्पादन किंमत सतत कमी करणे, अंमलबजावणीची गती वाढवणे, ऊर्जा वाचवणे, पर्यावरण सुधारणे आणि सामाजिक शाश्वत विकास साधणे.
1,लक्ष्य आकाराचा प्रभाव
कोटिंगचे मोठे क्षेत्र बहुतेक वेळा प्लॅनर ओरिएंटेशन आणि रोटेशनल ओरिएंटेशनसह आकारानुसार लक्ष्य सामग्री वापरतात.सामान्य प्लॅनर लक्ष्यांमध्ये तांबे लक्ष्य, चांदी लक्ष्य,Ni-Cr लक्ष्य आणि ग्रेफाइट लक्ष्य.सामान्य रोटेटिंग टार्गेटमध्ये झिंक अॅल्युमिनियम टार्गेट, झिंक टिन टार्गेट, सिलिकॉन अॅल्युमिनियम टार्गेट, टिन टार्गेट, टायटॅनियम ऑक्साइड टार्गेट, झिंक ऑक्साइड अॅल्युमिनियम टार्गेट आणि असेच बरेच काही असते. टार्गेट शेप मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंगच्या स्थिरता आणि फिल्म गुणधर्मांवर परिणाम करेल आणि त्याचा वापर. लक्ष्याचा दर खूप जास्त आहे.लक्ष्याच्या आकाराचे नियोजन बदलल्यानंतर, कोटिंगची गुणवत्ता आणि उत्पादन शक्ती सुधारली जाऊ शकते आणि खर्चात बचत केली जाऊ शकते.
2,सापेक्ष घनता आणि लक्ष्याच्या मंजुरीचा प्रभाव
लक्ष्यातील सापेक्ष घनता हे लक्ष्याच्या सैद्धांतिक घनतेच्या व्यावहारिक घनतेचे गुणोत्तर आहे, एकल घटक लक्ष्याची सैद्धांतिक घनता क्रिस्टल घनता आहे आणि मिश्रधातू किंवा मिश्रण लक्ष्याची सैद्धांतिक घनता सैद्धांतिकानुसार मोजली जाते. प्रत्येक घटकाची घनता आणि मिश्रधातू किंवा मिश्रणातील प्रमाण..थर्मल स्प्रेअरची लक्ष्य व्यवस्था सच्छिद्र, उच्च ऑक्सिजनयुक्त आहे (व्हॅक्यूम स्प्रेसह देखील, मिश्रधातूच्या लक्ष्यात ऑक्साइड आणि नायट्रस संयुगे तयार करणे अपरिहार्य आहे), आणि त्याचे स्वरूप राखाडी आहे आणि त्यात धातूची चमक नाही.शोषलेली अशुद्धता आणि ओलावा हे प्रदूषणाचे प्राथमिक स्त्रोत आहेत.
3,लक्ष्य कण आकार आणि क्रिस्टल दिशा प्रभाव
लक्ष्याच्या समान वजनामध्ये, लहान कण आकाराचे लक्ष्य मोठ्या कण आकाराच्या लक्ष्यापेक्षा वेगवान आहे.हे मुख्यत्वे कारण आहे कारण स्प्लॅशिंग प्रक्रियेत कण सीमा आक्रमण करणे सोपे आहे, कणांची सीमा जितकी जास्त असेल तितकी फिल्म तयार होईल.कणांच्या आकाराचा केवळ स्पटरिंगच्या गतीवरच परिणाम होत नाही, तर चित्रपट निर्मितीच्या गुणवत्तेवरही परिणाम होतो. उदाहरणार्थ, EowE उत्पादनांच्या उत्पादन प्रक्रियेत, NCr इन्फ्रारेड रिफ्लेक्टीव्ह लेयर एजीचा मेंटेनन्स लेयर म्हणून काम करते आणि त्याच्या गुणवत्तेवर खूप प्रभाव पडतो. कोटिंग उत्पादने.NiCr फिल्म लेयरच्या मोठ्या विलुप्त गुणांकामुळे, तो साधारणपणे पातळ असतो (सुमारे 3nm). कण आकार खूप मोठा असल्यास, थुंकण्याचा वेळ कमी होतो, फिल्म लेयरचे घनता खराब होते, एजी लेयरचा देखभाल परिणाम होतो. कमी होते, आणि कोटिंग उत्पादनांचे ऑक्सिडेशन डीकोटिंग आणले जाते.
निष्कर्ष
लक्ष्य सामग्रीचे आकार नियोजन प्रामुख्याने लक्ष्य सामग्रीच्या वापर दरावर परिणाम करते.वाजवी आकाराचे नियोजन लक्ष्य सामग्रीचा वापर दर सुधारू शकतो आणि खर्चात बचत करू शकतो. कणांचा आकार जितका लहान असेल तितका कोटिंगचा वेग अधिक तितकी एकसमानता चांगली.शुद्धता आणि घनता जितकी जास्त, तितकी सच्छिद्रता कमी, चित्रपटाची गुणवत्ता चांगली आणि डिस्चार्ज स्लॅग कमी होण्याची शक्यता कमी.
पोस्ट वेळ: एप्रिल-२७-२०२२